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This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

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Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2022-06
    Etapa
    : Norma Internacional publicada [60.60]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 29
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

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9
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7
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