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Résumé

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

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Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2022-06
    Stade
    : Norme internationale publiée [60.60]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

Cycle de vie

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue aux Objectifs de développement durable suivants

9
Industrie, innovation et infrastructure
7
Énergie propre et d'un coût abordable

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