недоступно на русском языке

Тезис

 Предпросмотр

This document provides guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. 

The methods of sputtered depth measurement described in this document are applicable to techniques of surface chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a typical sputtered depth of up to several micrometres. The depth typically determined by this approach is between 1 nm to 500 µm.


Общая информация 

  • Текущий статус
     :  Published
    Дата публикации
     : 2021-03
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет
     : ISO/TC 201/SC 4 Depth profiling
  • ICS
     :
    71.040.40 Chemical analysis

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития:

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF92

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. ТК
  5. ISO/TC 201/SC 4
  6. ISO/TR 15969:2021