Тезис
ПредпросмотрThis document provides guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling.
The methods of sputtered depth measurement described in this document are applicable to techniques of surface chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a typical sputtered depth of up to several micrometres. The depth typically determined by this approach is between 1 nm to 500 µm.
-
Текущий статус: PublishedДата публикации: 2021-03
-
Версия: 2
-
- ICS :
- 71.040.40 Chemical analysis
Приобрести данный стандарт
ru
Формат | Язык | |
---|---|---|
std 1 92 | PDF + ePub | |
std 2 92 | Бумажный |
- CHF92
Жизненный цикл
-
Ранее
WithdrawnISO/TR 15969:2001
-
Сейчас
-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
-
00
Появились вопросы?
Ознакомьтесь с FAQ
Работа с клиентами
+41 22 749 08 88
Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)
Будьте в курсе актуальных новостей ИСО
Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.