ISO/TR 15969:2021
ISO/TR 15969:2021
недоступно на русском языке

This document provides guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. 

The methods of sputtered depth measurement described in this document are applicable to techniques of surface chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a typical sputtered depth of up to several micrometres. The depth typically determined by this approach is between 1 nm to 500 µm.

Общая информация 

  •  :  Published
     : 2021-03
  •  : 2
  •  : ISO/TC 201/SC 4 Depth profiling
  •  :
    71.040.40 Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
std 1 92 PDF + ePub
std 2 92 Бумажный
  • CHF92

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.