ISO 14706:2014
p
ISO 14706:2014
61870
Indisponible en français

Résumé

 Preview

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.


Informations générales 

  •  :  Publiée
     : 2014-08
  •  : 2
  •  : ISO/TC 201 Analyse chimique des surfaces
  •  :
    71.040.40 Méthodes d'analyse chimique

Acheter cette norme

fr
Format Langue
std 1 118 PDF + ePub
std 2 118 Papier
  • CHF118

Cycle de vie


Vous avez une question?

Consulter notre FAQ

Service à la clientèle
+41 22 749 08 88

Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Suivez l'actualité de l'ISO

Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.