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Résumé

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

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Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2009-04
    Stade
    : Norme internationale confirmée [90.93]
  • Edition
     : 1
    Nombre de pages
     : 19
  • Comité technique :
    ISO/TC 201/SC 6
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

Cycle de vie

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue aux Objectifs de développement durable suivants

9
Industrie, innovation et infrastructure
7
Énergie propre et d'un coût abordable

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